Главная Компьютеры и комплектующие

Технологии травления кремниевых пластин станут важнее при дальнейшем развитии литографии

По имеющимся сведениям, подобное мнение находят верным даже некоторые представители руководства Intel, несмотря на то, что в последние годы эта корпорация активно инвестировала средства в освоение передовых литографических технологий, включая High-NA EUV. Существует предположение, что компания TSMC может отказаться от использования подобных сканеров при разработке технологического процесса A14, чтобы сократить расходы на приобретение необходимого оборудования, которые могут достигать миллиардов долларов США. Однако, эта задержка вряд ли будет значительной, поскольку в рамках разработки технологического процесса A14P тайваньский производитель может все же использовать технологию High-NA EUV. Аналогичной позиции придерживается южнокорейская компания Samsung Electronics.

Читать также:  Поездка на беспилотном такси Tesla обойдётся пассажирам в $4,20